萬州2011衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試報名有關(guān)問題通知

區(qū)級醫(yī)療衛(wèi)生單位，各位考生：

　　2011年全國衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試報名于2010年12月28日開始，現(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)通知如下：

　　一、網(wǎng)上預(yù)報名

　　(一)報名時間：考生報名全國采取網(wǎng)上統(tǒng)一報名方式，請考生在2010年12月28日至2011年1月16日自行登陸“中國衛(wèi)生人才網(wǎng)”http://www.21wecan.com/報名。

　　(二)報名條件：考生報名條件請直接在“中國衛(wèi)生人才網(wǎng)”相關(guān)欄目中查詢，具體政策待重慶考區(qū)辦公室下發(fā)后公示。

　　(三)目前網(wǎng)上預(yù)報名時間的報名人員對象只限參加衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格人員。護(hù)士執(zhí)業(yè)資格考試人員的報名時間和相關(guān)政策待衛(wèi)生部考試中心文件下發(fā)后另行通知。

　　二、現(xiàn)場確認(rèn)

　　考生在網(wǎng)上預(yù)報名結(jié)束后，必須到工作所在地衛(wèi)生行政部門的考試承辦機(jī)構(gòu)完善現(xiàn)場確認(rèn)手續(xù)�，F(xiàn)場確認(rèn)時間待重慶考區(qū)2011年1月4日后的考區(qū)工作會結(jié)束后公示。

　　三、有關(guān)注意事項(xiàng)

　　(一)網(wǎng)上預(yù)報名注意事項(xiàng)

　　1.報考人員須認(rèn)真閱讀并遵守《2011年度全國衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試報名須知》、《網(wǎng)上報名流程》和《網(wǎng)上報名操作手冊》等有關(guān)此次考試報名的規(guī)定，并按照上述規(guī)定的方法進(jìn)行報名。

　　2.報考人員須對報名信息的真實(shí)性、準(zhǔn)確性、合法性負(fù)責(zé)，并確認(rèn)本人符合報名條件;因弄虛作假或信息填報錯誤，導(dǎo)致無法進(jìn)行現(xiàn)場確認(rèn)、影響正常參加考試及后期證書發(fā)放的，由報考人員承擔(dān)全部責(zé)任。

　　3.如需修改報考信息，報考人員請參照報名須知中說明的方法，于網(wǎng)上報名結(jié)束前修改本人報考信息，并注意重新打印申報表。報名截止時所提交的報考信息即為最終信息。

　　4.照片要求。考生在填報信息完成后，應(yīng)將本人照片上傳。

　　上傳照片必須為考生本人近期正面免冠彩色證件照，務(wù)必保證照片清晰、可辨認(rèn)，其他如生活照、視頻捕捉、攝像頭所攝等照片一律不予審核，除軍人外其他考生不得著制式服裝拍照，女性不得穿背帶式服裝拍照。

　　照片大小為一寸或小二寸，格式為jpg，文件大小必須在15kb—45kb之間。頭部占照片尺寸的2/3，白色背景/面部正面頭發(fā)不得過眉，露雙耳，常帶眼鏡的考生應(yīng)配戴眼鏡，不得佩戴首飾。

　　(二)現(xiàn)場確認(rèn)注意事項(xiàng)

　　1.報考人員須在規(guī)定的時間內(nèi)進(jìn)行現(xiàn)場確認(rèn)，否則報名無效。

　　2.報考人員到現(xiàn)場確認(rèn)須按報名政策規(guī)定，請攜帶相關(guān)證件原件和復(fù)印件。

　　3.報考人員現(xiàn)場確認(rèn)須完善簽字確認(rèn)和繳納考試費(fèi)用后，方才正式報名結(jié)束，否則報名無效。

　　4.各單位須按照考試政策規(guī)定嚴(yán)格審查報考人員資格。非本單位職工不得簽字蓋章報送確認(rèn)現(xiàn)場。報考人員和考生審查單位如有違規(guī)、違紀(jì)行為，考試主管部門和考試機(jī)構(gòu)將依據(jù)《專業(yè)技術(shù)人員資格考試違紀(jì)違規(guī)行為處理規(guī)定》(中華人民共和國人事部令第3號)、《關(guān)于實(shí)施<專業(yè)技術(shù)人員資格考試違紀(jì)違規(guī)行為處理規(guī)定>有關(guān)問題的通知》(國人部發(fā)[2007]25號)等有關(guān)規(guī)定進(jìn)行嚴(yán)肅處理。

　　其他相關(guān)問題，待重慶考區(qū)文件下發(fā)后另行通知。請考生隨時關(guān)注“萬州衛(wèi)生信息網(wǎng)”http://wsw.wz.gov.cn/公告信息。

　　全國衛(wèi)生專業(yè)技術(shù)資格考試萬州考點(diǎn)辦公室

　　二〇一〇年十二月二十八日

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