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釉質(zhì)的組織學(xué)結(jié)構(gòu)
釉柱
與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)
釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處
與釉質(zhì)周期性生長(zhǎng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)
一、釉 柱 enamel rod
(一)概念
釉質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)，是一種細(xì)長(zhǎng)的柱狀體，起自釉牙本質(zhì)界，呈放散狀貫穿釉質(zhì)全層。路線(xiàn)不是徑直的。
(二)分布特點(diǎn)
窩溝處：釉質(zhì)由釉牙本質(zhì)界向窩溝底集中。
牙頸部：釉柱排列基本呈水平狀。
(三)形態(tài)
光鏡(磨片)
縱斷面：柱狀體;彎曲狀。
橫斷面：魚(yú)鱗狀。
釉柱間隙：釉柱尾部與相鄰釉柱頭部相交處呈現(xiàn)參差不齊的增寬了的間隙。
釉柱鞘(enamel rod sheath) ：釉柱頭部清晰的弧形邊界
二、與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)
(一)絞釉(gnarled enamel)
分布：釉質(zhì)內(nèi)2/3彎曲;牙切緣及牙尖處彎曲更明顯。
作用：增強(qiáng)釉質(zhì)對(duì)咬合力的抵抗。
(二)施雷格線(xiàn) (Schreger line)
落射光觀察牙縱磨片:可見(jiàn)寬度不等的明暗相間帶.這些明暗帶稱(chēng)為施雷格線(xiàn) .
分布:釉質(zhì)內(nèi)4/5處.
原因:釉柱排列方向的規(guī)律性改變而產(chǎn)生的折光現(xiàn)象.
暗區(qū)—釉柱的橫斷區(qū);
亮區(qū)—釉柱的縱斷區(qū).
(三)無(wú) 釉 柱 釉 質(zhì)(rodless enamal)
分布：在近釉牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表面約30μm處,均看不到釉柱結(jié)構(gòu). 高分辨率電鏡下可見(jiàn)晶體平行排列。
原因：內(nèi)層:可能是成釉細(xì)胞在最初分泌釉質(zhì)時(shí),Tomes突尚未形成.
外層:可能是成釉細(xì)胞分泌活動(dòng)停止及Tomes突退縮所致.
提示: Tomes突形成的重要性.
三、釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處
釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction
釉板 enamel lamella
釉叢 emamel tuft
釉梭 enamel spindle
1. 釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction
外形：呈貝殼狀，非直線(xiàn)。由許多圓弧形構(gòu)成，凸面向著牙本質(zhì)，凹面向著牙釉質(zhì)。
作用：增大二者的接觸面，加大了釉質(zhì)在牙本質(zhì)上的附著。
2. 釉板 enamel lamella
光鏡：垂直于牙面的薄層板狀結(jié)構(gòu)，可以貫穿整個(gè)釉質(zhì)的厚度。磨片上呈裂隙狀。
原因：可能是局部牙釉質(zhì)成熟的缺陷，鈣化不全，水分和釉質(zhì)基質(zhì)的殘留。
3. 釉叢 emamel tuft
光鏡：起自釉牙本質(zhì)界向牙表面散開(kāi)，呈草叢狀。其高度相當(dāng)于釉質(zhì)的1/5~1/4
分布：較均勻。
原因：在Tomes突形成和釉質(zhì)沉積階段，一部分礦化較差的釉柱，有機(jī)物含量高。
4. 釉梭 enamel spindle
光鏡：起始于釉牙本質(zhì)界，呈紡錘狀結(jié)構(gòu)，黑色。
分布：牙尖及切緣部較多見(jiàn)。
原因：一般認(rèn)為它是成牙本質(zhì)細(xì)胞胞漿突起的末端膨大突入釉質(zhì)中形成。
四.與釉質(zhì)周期性生長(zhǎng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)
(一)橫紋 cross striations
是釉柱上與釉柱的長(zhǎng)軸相垂直的線(xiàn),透光性低.
呈規(guī)律性分布,間隔2~6um.使釉柱看起來(lái)像梯子.
原因:
與成釉細(xì)胞每天的周期性形成有關(guān),代表每天形成的速度.
可能反映釉柱中有機(jī)物、無(wú)機(jī)物在含量和密度上的變化;碳酸鹽和納含量呈周期性變化，與橫紋吻合;
可能代表晶體緊密堆積間穿插著有機(jī)物的聚集;礦化低。
(二) 生長(zhǎng)線(xiàn) incremental line
橫磨片:呈深褐色同心環(huán)狀,似樹(shù)的年輪。
縱磨片:自釉牙本質(zhì)界向外，沿著釉質(zhì)形成的方向，在牙尖部呈環(huán)行排列，近牙頸部部漸成斜行線(xiàn).
原因:
是釉質(zhì)周期性的生長(zhǎng)速率改變所形成的間歇線(xiàn)。約代表5~10天釉質(zhì)沉積的速度
寬度和間距因發(fā)育狀況變化而不同.
新生線(xiàn) neonatal line
定義:在乳牙和第一恒磨牙上,常見(jiàn)的一條加重的生長(zhǎng)線(xiàn).
原因:釉質(zhì)一部分在胎兒期形成,另一部分在嬰兒出生后.
電鏡:晶體密度減低.
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